ABSTRACT
Esse estudo teve como objetivo avaliar a distribuição de forças, através da fotoelasticidade, em implantes com conexão tipo cone morse em diferentes posições quanto ao nível ósseo, quando submetidos a carga axial. Três modelos fotoelásticos foram confeccionados com os implantes inseridos em diferentes situações: ao nível ósseo (Grupo1), 1 mm abaixo do nível ósseo (Grupo 2) e 1 mm abaixo do nível ósseo com recobrimento da plataforma do implante (Grupo 3). Os modelos foram levados a um polariscópio e foi aplicada uma carga de 30N, no sentido axial e outra com angulação de 45 graus. Os resultados demonstraram que nos Grupos 1 e 2 as forças se dissiparam em uma área menor da amostra, enquanto que no Grupo 3 a distribuição das tensões foi em uma área muito maior. Assim, pode-se concluir que onde o implante foi colocado 1 mm abaixo e recoberto por osso (Grupo 3), as forças geraram um estresse muito menor ao suporte e muito menos concentradas
This study has aimed to evaluate the distribution of forces through photoelastic analysis in implants with cone morse connection at different positions regarding bone level, when submitted to axial load. Three photoelastic models were made with the implants inserted in different situations: at the bone level(Group 1), 1mm below the bone level (Group 2), and 1mm below the bone level with coverage over implant platform (Group 3). The models were taken to a polariscope, and a 30N load was applied over them, in the axial direction and in a 45 degree angle. The results showed that in Groups 1 and 2 forces have dissipated in a smaller area of the sample, while in Group 3 was the stress distribution in a much larger area. Thus, it can be concluded that where the implant was placed at 1mm below and covered by bone (Group 3), forces have generated much less stress to the substrate and were much less concentrated