ABSTRACT
Background: Nosocomial infections caused by multiresistant Gram-positive cocci are a serious problem for public health systems worldwide. The use of copper surfaces in hospital environments has proven to be an effective alternative for the control of various microorganisms, including multiresistant nosocomial pathogens. Aim: To determine the association between antibiotic multiresistance and higher levels of copper tolerance in Gram-positive cocci isolated from Chilean hospitals, which might confer a selective advantage in environments with copper. Methods: The ionic copper tolerance levels were evaluated using the Mueller Hinton agar dilution method, in S. aureus and Enterococcus spp. strains with different levels of susceptibility to clinically relevant antibiotics. Results: A statistically significant association between higher levels of tolerance to copper ion and multi-resistance to antibiotics in Enterococcus spp. was observed.
Introducción: Las infecciones nosocomiales, producidas por bacterias cocáceas grampositivas multi-resistentes constituyen un serio problema para los sistemas de salud pública mundial. El uso de superficies de cobre en ambientes hospitalarios ha demostrado ser una alternativa efectiva para el control de diversos microorganismos, incluyendo patógenos nosocomiales multi-resistentes. Objetivo: Determinar la asociación entre la multi-resis-tencia a antimicrobianos y mayores niveles de tolerancia a cobre en bacterias cocáceas grampositivas aisladas de hospitales chilenos, que podrían conferir una ventaja selectiva en ambientes cobrizados. Material y Métodos: Se evaluó los niveles de tolerancia a cobre iónico en grupos de cepas de Staphylococcus aureus y Enterococcus spp. con distintos grados de susceptibilidad a antimicrobianos de relevancia clínica, mediante el método de dilución en agar Mueller Hinton. Resultados: Se observó una asociación estadísticamente significativa entre mayores niveles de tolerancia a cobre iónico y la multi-resistencia a antimicrobianos en Enterococcus spp.