Análisis electroquímico y topográfico de la capa de óxido de titanio de implantes de oseintegración nuevos, utilizados, fracasados no reesterilizados y reesterilizados con luz ultravioleta / Electro-chemical and topographic analysis of the titanium oxide layer surface of new osseointegrated implants, used, failed, not reesterilized and re-esterilized with ultra violet light

El propósito de este estudio fue el de analizar las propiedades topográficas y electroquímicas de la capa de óxido de titanio en implantes reesterilizados con luz ultravioleta y compararlos con implantes nuevos de titanio e implantes fracasados no reesterilizados. Se utilizaron u total de 6 implantes; 2 nuevos y 4 usados fracasados. El análisis de la superficie de los implantes se realizó con microscopia electrónica de barrido y microsonda de rayos X de energía dispersa. Los resultados mostraron que la reesterilización de los implantes con luz ultravioleta no elimina los contaminantes inorgánicos existentes sobre la capa de óxido, pero que si modifica favorablemente la textura superficial de éste.