Análise fotoelástica de tensões em próteses obturadoras palatinas implantorretidas, sobre implantes paralelos ou inclinados, associados a diferentes tipos de sistemas de retenção / Photoelastic analysis of stress in implant-retained maxillary obturator dentures using parallel or tilted implants associated with different attachment systems

RESUMO

Os defeitos maxilares podem reduzir drasticamente a eficiência mastigatória e a retenção das próteses destes pacientes. Logo, a associação dos implantes aos sistemas de retenção proporcionou uma nova alternativa de reabilitação para tais casos. Entretanto, a literatura é escassa em relação ao comportamento biomecânico dos diferentes sistemas de retenção em próteses obturadoras palatinas implantorretidas, principalmente em relação às tensões geradas ao implante e tecido ósseo de suporte. Desse modo, este estudo teve como propósito avaliar a distribuição de tensões, por meio do método fotoelástico, em próteses obturadoras palatinas implantorretidas, sobre implantes paralelos ou inclinados associados a diferentes tipos de sistemas de retenção. Foram confeccionados três modelos fotoelásticos a partir de um modelo maxilar experimental com comunicação buco-sinusal divididos em modelo sem implante (SI), modelo com três implantes paralelos (IP) e modelo com dois implantes paralelos entre si (incisivo e canino) e outro inclinado (angulação distal 17°), na região de molar (II). Posteriormente, foi confeccionada uma prótese obturadora convencional (controle) e quatro próteses obturadoras palatinas implantorretidas para cada modelo com implante (IP e II) com respectivos sistemas de retenção OR - com três O-rings individualizados, BC - barra-clip, BOC - implantes esplintados por meio de barras associados a dois O-rings posicionados no centro da barra e, BOD - implantes esplintados por meio de barras com clipes associados a dois O-rings posicionados distalmente em cantilever. O conjunto (modelo/sistema de retenção/prótese) foi posicionado em um polariscópio circular, e sobre o mesmo foi aplicada uma carga de 100N, na região de incisivo central, canino e primeiro molar (região com implantes) com o auxílio de uma Máquina de Ensaio Universal (EMIC-DL 3000). Os resultados foram obtidos pela observação do registro fotográfico das tensões nos modelos fotoelásticos, resultante...

ABSTRACT

Maxillary defects may drastically affect the masticatory efficiency and the retention of dentures of several patients. The use of implants associated with attachment systems brought a new alternative of oral rehabilitation in these cases. However, the biomechanical behavior of the different attachment systems used with implant-retained maxillary obturator dentures is still scarce in the literature in regards to stress generated over the implants and bone tissue. Thus, the current study used a photoelastic analysis to investigate the stress distribution in implant-retained maxillary obturator dentures over parallel or tilted implants associated with different attachment systems. A total of three photoelastic models based on an experimental maxillary model with oroantral communication were developed, and they were divided as follow model without implants (SI), model with three parallel implants (IP) and model with two parallel implants (incisive and canine areas) and one tilted implant (distal angulation of 17 degrees) in the molar region (II). Afterwards, a conventional obturator denture (control) and four implant-retained obturator dentures for each implant model (IP and II) were fabricated. In the IP and II groups different attachment systems were used OR – three independent O’rings, BC – bar-clip, BOC – splinted implants with bar associated with two O’rings placed in the center part of each bar, and BOD – splinted implants with bar-clip associated with two distally placed O’rings (in cantilever). The set (model/attachment system/denture) was placed in a circular polariscope, and a 100-N load was applied either in the central incisor, canine or first molar regions using an universal testing machine (EMIC DL-3000). The results were obtained based on the photographic records of the stress in the photoelastic models resulted from the applied load. In both IP and II groups the greatest stress concentration was observed for the BC attachment system, followed by…