Tolerance to Polycyclic Aromatic Hydrocarbons (PAHs) by filamentous fungi isolated from contaminated sediment in the Amazon region / Tolerância a Hidrocarbonetos Policíclicos Aromáticos (HPAs) por fungos filamentosos isolados de sedimentos contaminados da região Amazônica

ABSTRACT

Tolerance to Polycyclic Hydrocarbons Aromatic (PAHs) is considered an important characteristic when assessing the bioremediation potential of microorganisms. Given this, the objective of this research was to assay filamentous fungi from the Amazon region, isolated from sediments with differents levels of contamination by PAHs, for tolerance to phenanthrene and pyrene. To achieve this, fungal cultures plugs (5 mm), obtained after 7 days growth, were transferred to petri dishes containing 20% Sabouraud dextrose agar medium, after surface innoculation with phenanthrene and pyrene crystals, separately. Radial mycelial growth was evaluated after 10 days at five different concentration levels for each contaminant and control group, all in triplicate for each treatment. Fungal growth and growth inhibition rates were calculated. The average growth of the colonies in each treatment was compared with one-way ANOVA, followed by a Tukey Test (p < 0,05). All fungi showed tolerant to phenanthrene and pyrene. However, Hypoxylon sp. showed the lowest growth inhibition rate and average growth rates significantly different of the other six tested species. Hypoxylon sp. has been shown to be a promising genetic resource for use in new studies of PAHs degradation.

RESUMO

A tolerância a Hidrocarbonetos Policíclicos Aromática (HPAs) é considerada como uma característica importante na avaliação do potencial de micro-organismos para biorremediação. Diante disso, o objetivo desta pesquisa foi avaliar fungos filamentosos da região amazônica, isolados de sedimentos com diferentes níveis de contaminação por HPAs, quanto à tolerância ao fenantreno e pireno. Para tanto, discos das culturas fúngicas (5 mm), obtidas após 7 dias de crescimento, foram transferidas para placas de Petri contendo meio Agar Sabouraud Dextrose a 20%, após inoculação superficial com cristais de fenantreno e pireno, separadamente. O crescimento micelial radial foi avaliado após 10 dias em cinco concentrações diferentes para cada contaminante e grupo controle, ambos em triplicata para cada tratamento. As taxas de crescimento fúngico e de inibição de crescimento foram calculadas. O crescimento médio das colônias em cada tratamento foi comparado com ANOVA one way, seguido pelo teste de Tukey (p < 0,05). Todos os fungos mostraram tolerância ao fenantreno e ao pireno. No entanto, Hypoxylon sp. apresentou menor taxa de inibição de crescimento e taxas médias de crescimento significativamente diferentes das outras seis espécies testadas. Hypoxylon sp. tem se mostrado um recurso genético promissor para uso em novos estudos sobre degradação de HPAs.