Resistencia al cizallamiento utilizando adhesivo de grabado total y autograbante con y sin hipoclorito de sodio en dentina / Shear strength using total and self etching adhesive with and without sodium hypochlorite in dentin

RESUMEN

Es un estudio de investigación cuantitativo donde el objetivo fue determinar la resistencia al cizallamiento utilizando adhesivo de grabado total y autograbante, introduciendo la desproteinización con NaOCl al 5.25 por ciento en dentina y comparar sus valores de resistencia. El estudio se realizó en 31 molares seccionados mesiodistalmente y vestibulo lingual, obteniendo 124 especímenes, se suspendieron en acrílico, pulieron y colocaron en refrigeración a 36 oC durante 48 horas; fueron clasificados en grupos A Prime & Bond NT, B NaOCl + Prime & Bond NT, C NaOCl + Xeno® IV y D Xeno® IV; se fotoactivó un cilindro de resina compuesta ESTHET-X HD de Dentsply, se mantuvo por 24 horas en horno Felisa con 100 por ciento de humedad, finalmente se probaron en la máquina INSTRON a una velocidad de 1 m/min. Se obtuvieron los siguientes promedios, grupos A 6.26, B 7.71, C 12.03 y D 15.06 MPa. Para el grupo C y D que pertenecen al grupo autograbante, fueron estadísticamente significativos para el sustrato dentinal. NaOCl no mostró significancia entre los grupos.

ABSTRACT

It is a quantitative research where the objective was to determinethe shear strength using total and self etching adhesive, introducing de proteinization with 5.25% NaOCl in dentin and comparing its resistance values. The study was performed on 31 mesiodistally andbuccololingual sectioned molars, obtaining 124 specimens, suspended in acrylic, polished and placed in refrigeration at 36 oC for 48 hours;Were classified into groups A Prime & Bond NT, B NaOCl + Prime& Bond NT, C NaOCl + Xeno® IV and D Xeno® IV; A DentsplyESTHET-X HD composite resin cylinder was photoactivated, kept for24 hours in a Felisa oven with 100% humidity, finally tested on theINSTRON machine at a speed of 1 mm/min. The following averageswere obtained, groups A 6.26, B 7.71, C 12.03 and D 15.06 MPa.For group C and D belonging to the self-etching group, they werestatistically significant for the dentinal substrate. NaOCl, showed nosignificance between the groups.