Effect of etching and light-curing time on the shear bond strength of a resin-modified glass ionomer cement

ABSTRACT

The aim of this study was to assess the influence of etching and light-curing time on the shear bond strength (SBS) and adhesive remnant index (ARI) of a resin-modified glass ionomer cement (RMGIC) upon debonding of orthodontic brackets. Sixty-eight bovine permanent incisors were obtained and embedded in acrylic resin. Edgewise metallic brackets were bonded to the teeth with Fuji Ortho LC RMGIC. The specimens were randomly assigned to 4 groups, using the following etching and light-curing times G1 10 percent polyacrylic acid and 40 s (control); G2 37 percent phosphoric acid and 40 s; G3 10 percent polyacrylic acid and 50 s; and G4 37 percent phosphoric acid and 50 s. Shear test was performed at 0.5 mm/min and the ARI was assessed. G2 (3.6 ± 0.98 MPa) presented significantly higher (p<0.05) SBS than G1 (2.76 ± 0.86 MPa) and G4 (2.86 ± 0.68 MPa), and there was no statistically significant difference (p>0.05) between G2 and G3 (2.94 ± 0.67 MPa). ARI presented prevalence of scores 2 and 3 in all groups. RMGIC SBS enhanced with 37 percent phosphoric acid etching and 40 s light-curing time, but this did not occur when the light-curing time was increased, regardless of the acid used. RMGIC presented prevalence of failures at the adhesive/bracket interface.

RESUMO

O objetivo desta pesquisa foi avaliar a influência do condicionamento ácido e do tempo de fotopolimerização na Resistência Adesiva (RA) e no Índice de Adesivo Remanescente (IAR) do Cimento Ionômero de Vidro Modificado por Resina (CIVMR). Sessenta e oito incisivos permanentes de bovinos foram obtidos e incluídos em resina acrílica. Bráquetes metálicos edgewise foram colados nesses corpos de prova com o CIVMR Fuji Ortho. A amostra foi dividida em 4 grupos, utilizando os seguintes condicionamentos ácidos e tempos de fotopolimerização G1- Ácido poliacrílico a 10 por cento e 40 s (controle); G2- Ácido fosfórico a 37 por cento e 40 s; G3- Ácido poliacrílico a 10 por cento e 50 s; e G4- Ácido fosfórico a 37 por cento e 50 s. O teste de cisalhamento foi realizado a 0,5 mm/min e o IAR avaliado. O G2 (3,6 ± 0,98 MPa) apresentou RA estatisticamente maior que o G1 (2,76 ± 0,86 MPa) e o G4 (2,86 ± 0,68 MPa) (p<0,05), e não houve diferença estatística entre G2 e G3 (2,94 ± 0,67 MPa) (p>0,05). O IAR apresentou prevalência dos escores 2 e 3 em todos os grupos. A RA do CIVMR aumenta com condicionamento com ácido fosfórico a 37 por cento e 40 s de fotopolimerização, mas isto não ocorre quando o tempo de fotopolimerização é aumentado, independente do tipo de ácido utilizado; e o CIVMR apresenta prevalência de fratura na interface adesivo/bráquete.