Micobactérias de crescimento rápido de importância médica no Brasil: eficácia antimicrobiana de desinfetantes e sistema de esterilização por plasma / Rapidly growing mycobacteria of medical importance in Brazil: antimicrobial efficacy of disinfectants and plasma sterilization system

RESUMO

Práticas inadequadas de descontaminação, desinfecção e esterilização de materiais médico-hospitalares têm propiciado o surgimento de inúmeros surtos de infecções por 'Micobactérias de Crescimento Rápido' (MCR), em todo o Brasil. Entre os anos de 2000 a 2008 foram relatados mais de 2000 casos confirmados de infecções por MCR, sendo que os procedimentos por vídeo se constituíram como os maiores veiculadores destes microrganismos. O aumento do emprego de dispositivos de natureza polimérica em procedimentos médico-cirúrgicos e ausência/não cumprimento de protocolos de processamento destes materiais podem estar envolvidos na disseminação, principalmente, pela capacidade de MCR produzirem e sobreviverem em sistemas de biofilmes. Desta forma, este trabalho teve como objetivo a avaliação da susceptibilidade de cepas de Mycobacterium abscessus subsp. bolettii (suspensão e biofilmes), causadoras ou não de surto, frente a desinfetantes químicos constituídos de Glutaraldeído 2%, Ácido Peracético 0,2%, Peróxido de Hidrogênio 35%, Solução Alcoólica de Digluconato de Clorexidina 0,5%, Solução Aquosa de Clorexidina 0,2%, Compostos de Amônio Quaternário 1,2%, Iodo 1% e Fenol 5% e Sistemas de Esterilização por Plasma (RIE e ICP) empregando mistura gasosa O2-H2O2. Paralelamente, suportes poliméricos (PVC, PEAD, PP, PUR e PC) empregados como carreadores de MCR foram analisados por Espectroscopia Fotoacústica no Infravermelho (PAS-FTIR), Microscopia Eletrônica de Varredura (MEV), microanálise em Sistema Energy Dispersive Spectroscopy (EDS) e Perfilometria. Resultados destas investigações demonstraram a resistência das cepas de M. abscessus subsp. bolettii, isolada do surto ocorrido em Belém, frente a Glutaraldeído 2%, Solução Alcoólica de Digluconato de Clorexidina 0,5%, Solução Aquosa de Clorexidina 0,2%, Compostos de Amônio Quaternário 1,2% e Iodo 1%. Entretanto, estas cepas foram altamente sensíveis à Ácido Peracético 0,2%, Peróxido de Hidrogênio 35% e Fenol 5% e Sistema...

ABSTRACT

Numerous outbreaks of Rapid Growth of Mycobacteria (RGM) have been associated with decontamination, disinfection and sterilization malpractices, in Brazil. Between 2000-2008 were reported more than 2,000 confirmed cases due to RGM infections, and the video procedures were considered to carry these microorganisms. The increased use of medical devices in surgical procedures may be involved in the RGM spreading by its ability to grow and survive in biofilm systems. The aim of this study was evaluate the susceptibility of Mycobacterium abscessus subsp. bolletii (outbreak and nonoutbreak strains) to chemical disinfectants Glutaraldehyde 2%, Peracetic Acid 0.2%, Hydrogen Peroxide 35%, Chlorhexidine Digluconate 0.5%, Chlorhexidine 0.2%, Iodine 1%, Quaternary Ammonium Compounds 1.2%, and Phenol 5%. Plasma Sterilization Technologies (Reactive Ion Etching and Inductively Coupled Plasma) were also evaluated. Polymers employed in medical devices (Polyvinyl chloride, High-Density Polyethylene, Polycarbonate, Polypropylene, and Polyurethane) were analyzed by Photoacoustic Infrared Spectroscopy (PAS-FTIR), Scanning Electron Microscopy (SEM), System Energy Dispersive Spectroscopy (EDS) and Profilometry. The results have demonstrated the resistance of Mycobacterium abscessus subsp. bolletii isolated from the Belém (PA) outbreak considering chemical exposition to Glutaraldehyde 2%, Chlorhexidine Digluconate 0.5%, Chlorhexidine 0.2%, Quaternary Ammonium Compounds 1.2%, and Iodine 2%. However, these strains were highly sensitive to Peracetic Acid 0.2%, Hydrogen Peroxide 35%, and Phenol 5%. The M. abscessus subsp. bolletii strains have been presented resistant to all disinfectants studied, in biofilm systems. Studies involving polymer integrity demonstrated changes in surface (oxidation and roughness) on all processed materials, and the ICP system was more aggressive in contrast to Reactive Ion Etching.