Influence of photopolymerization light source on enamel shear bond strength after bleaching

RESUMO

Este estudo avaliou a influência do tipo de fonte fotopolimerizadora na resistência ao cisalhamento da união adesiva ao esmalte clareado com peróxido de carbamida a 10%. Setenta e dois dentes incisivos bovinos íntegros foram divididos em 6 grupos (n=12) de acordo com a realização ou não do tratamento clareador e com a fonte fotoativadora empregada G1 ù clareamento/luz halógena; G2 ù sem clareamento (controle)/luz halógena; G3 ù clareamento/LED; G4 ù sem clareamento (controle)/LED; G5 ù clareamento/arco de plasma de xenônio; G6 ù sem clareamento/arco de plasma de xenônio. Os grupos experimentais foram submetidos ao clareamento por um período de 14 dias, com exposição diária 4 horas. Os grupos controle foram armazenados em saliva artificial, a 37ºC, por período igual ao clareamento. A união da resina composta ao esmalte obedeceu às recomendações dos fabricantes. Em seguida, todos os corpos de prova foram armazenados em água destilada, por 24 horas, a 37ºC, até a realização do ensaio de resistência ao cisalhamento. O maior valor médio de resistência (14,86 MPa) foi obtido para o grupo G2, e o menor para o grupo G5 (12,32 MPa). A comparação dos grupos através da análise de variância (ANOVA 2-way) demonstrou não haver diferenças significativas para ambos os fatores considerados neste estudo (clareamento e tipo de fonte fotopolimerizadora), bem como para a interação entre estes. Sendo assim, foi possível concluir que o clareamento do esmalte bem como o tipo de fonte fotopolimerizadora utilizada, não interferiram na resistência da união adesiva a este substrato.