Resistência à perda de corte de instrumentos rotatórios de níquel-titânio submetidos à implantação iônica de nitrogênio / Cutting ability resistance in nickel-titanium instruments submitted to nitrogen ion implantation
São Paulo; s.n; 2006. 89 p. ilus, tab, graf.
Thesis
en Pt
| LILACS, BBO
| ID: lil-450063
Biblioteca responsable:
BR97.1
Ubicación: BR97.1; TD24, C837r, 2006
RESUMO
O presente estudo verificou o aumento da resistência à perda de corte de instrumentos produzidos em liga de níquel-titânico, após tratamento de implantação iônica de nitrogênio. Para tal, foram utilizados vinte e um instrumentos da marca K3 vENDO, de no. 25.02, com 21 mm, dividos em dois grupos. O grupo 1 foi constituído por onze instrumentos submetidos à ação de uma câmara de implantação iônica de nitrogênio, servindo um deles como controle para a determinação da quantidade de íons implantados. O grupo 2 foi composto por dez instrumentos nâo submetidos ao processo de implantação iônica. Cada lima instrumentou 20 blocos de canais simulados 20.02 de 21 mm, previamente lavados em cuba ultra-sônica com detergente a 40 graus centígrados por 10 minutos e depois com água bidestilada por mais 10 minutos. Os mesmos foram secos com jato de ar, voltaram para estufa a 40 graus centígrados por 2 dias e finalmente pesados em balança analítica. Após cada instrumentação os blocos foram lavados em cuba-ultra-sônica com detergente a 40 graus centígrados por 20 minutos e pesados novamente. O ensaio de resistência à perda de corte foi realizado mediante a instrumentação de cada bloco com auxílio de um simulador de ação da instrumentação endodôntica, sendo a amplitude percorrida pelo contra-ângulo padronizada em 2,5 mm a cada penetração de 1,5 N. Quanto a resistência à perda de corte os resultados mostraram que os instrumentos implantados não apresentaram diferença estatisticamente significante em nível de 5%...
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Índice:
LILACS
Asunto principal:
Instrumentos Dentales
/
Endodoncia
/
Ciencia de los Materiales
/
Iones
Idioma:
Pt
Año:
2006
Tipo del documento:
Thesis