Análisis químico y topográfico de la superfície de implantes dentarios mediante espectroscopia de fotoelectrones y microscopía electrónica de barrido: estudio preliminar / Chemical and topographic analysis of dental implant surfaces using photoelectron spectroscopy and scanning electron microscopy: preliminary study

RESUMEN

El objetivo de este estudio fue analizar la composición química y la topografía superficial de implantes de titanio comercialmente puro, obtenidos de 3 marcas comerciales utilizadas actualmente en odontología. Fueron analizados 6 implantes de titanio de los siguientes sistemas SIN, P-I philosophy y Neodent. Este material fue dividido en 3 grupos de 3 implantes cada uno. Para determinar la composición química de la superficie fue utilizada la técnica de Espectroscopia de Fotoelectrones Excitada por rayos-X (XPS), mientras que para caracterizar la topografía superficial fue utilizada Microscopia electrónica de barrido. Titanio, Carbono Silicio y Oxigeno fueron identificados en todas las muestras analizadas. Otros elementos contaminantes identificados fueron Silicio, Aluminio, azufre, plomo, Fósforo, Calcio, Sodio, Nitrógeno y Carbono. Fueron identificadas impurezas en la superficie de todos los implantes analizados. Consideramos necesarios otros estudios que relacionen permanentemente la presencia y concentración de estos elementos con el proceso de oseointegración...

ABSTRACT

The aim of this study was to analyze the chemical composition and surface topography of commercially pure titanium implants, obtained from 03 trademarks frequently used in dentistry. There were 9 titanium implants of the following systems SIN, P-I philosophy and Neodent. These materials were divided into 3 groups, with 3 implants in each group. Photoelectron Spectroscopy Excited by X-ray (XPS) was used to determine the chemical composition, while to characterize the surface topography we used Scanning Electron Microscopy (SEM). Titanium, carbon silicon and oxygen were identified in all samples analyzed. Other contaminants were silicon, aluminum, sulfur, lead, phosphorus, calcium, sodium, nitrogen and carbon. We identified impurities on the surface of all implants analyzed. We consider necessary to development more studies relating the presence and concentration of these elements with the osseointegration process...