Análise fotoelástica da distribuição de tensões em diferentes junções pilar/implante / Photoelatic analisys of the stress distribution over different abutment/implant connections

RESUMO

Pode ser observado que os implantes osseointegrados originais, com plataforma de hexágono externo, apresentam perda óssea marginal de, em média 0,9mm no 1º ano e 0,1mm por ano subseqüente. Foi sugerido que isso estaria ligado à concentração de tensões, resultantes de sobrecarga na prótese, sobre a junção dos implantes causando micro-fraturas ósseas. Buscando minimizar o problema foram lançados no mercado diferentes tipos de conexões pilar/implante. Neste trabalho foram avaliadas junções hexágono interno, hexágono externo, cone Morse e um conjunto pilar/implante sem conexão. Foram fabricados pilares e implantes sem roscas, cujas formas diferiam entre si apenas pelas diferentes junções citadas e uma peça única pilar/implante que não apresentava junção. Implantes e pilares foram unidos formando quatro grupos com o mesmo desenho externo, cada mostra foi fixada em bloco fotoelástico de mesmas dimensões. Sobre cada conjunto foram aplicadas cargas. O gradiente de tensões ao longo do implante nos modelos foi avaliado qualitativa e quantitativamente. Foram encontradas diferenças entre os modelos analisados, tanto em localização quanto em valores máximos de tensões. Apesar disso, devido alimitações do estudo, os valores encontrados não foram considerados definitivos, pois o presente trabalho serviu como piloto para realização de um projeto maior buscando elucidar melhor a distribuição de tensão sobre diferentes implantes dentários.