Efeito da intensidade de luz, distância e tempo de fotoativação sobre a interface esmalte-resina composta: análise por microscopia eletrônica de varredura / Effect of light intensity, distance and curing time on resin-composite to enamel adaptation: analysis by scanning electronic microscopy

RESUMO

O objetivo deste estudo foi analisar por microscopia eletrônica de varredura (MEV) a adaptação esmalteresinacomposta, variando intensidade de luz, tempo de fotoativação e distância da ponteira à resina. Foram confeccionadas 48 cavidades (2,2 mm de diâmetro e 4mm de profundidade) nas superfícies vestibular, lingual, mesial e distal de 12 molares extraídos. As cavidades (n= 48) foram restauradas em incremento único com resina composta (Supreme®), fotoativadas observando os fatores: 180 ou 580 mW.cm-2, 20 ou 40s de fotoativação, ponteira justaposta à resina ou afastada 8 mm. Os grupos estão descritos como: G1 - 20s x 180 mW.cm-2 x 0 mm; G2 - 40s x 180 mW.cm-2 x 0 mm; G3 - 20s x 580 mW.cm-2 x 0 mm; G4 - 40s x 580 mW.cm-2 x 0 mm; G5 - 20s x 180 mW.cm-2 x 8 mm; G6 - 40s x 180mW.cm-2 x 8 mm; G7 - 20s x 580 mW.cm-2 x 8 mm; G8 - 40s x 580 mW.cm-2 x 8 mm. As cavidades restauradas foram preparadas para serem analisadas em MEV a fim de se observar a adaptação adesiva. Por meio dos resultados do teste não paramétrico de Kruskal-Wallis (α = 0,05), verificou-se que existe diferença significativaentre os grupos. Observou-se que os grupos 1, 2, 5 e 6 apresentaram melhor adaptação que os grupos 3, 4 e 7. O grupo 8 não apresentou diferença significativa em relação aos demais grupos. Na comparação entre os grupos, as menores desadaptações evidenciaram-seao se trabalhar com baixa intensidade da fonte de luz.O tempo de ativação e a distância da fonte à resina não tiveram influência na adaptação das restaurações