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1.
Impurity and silicate formation dependence on O3 pulse time and the growth temperature in atomic-layer-deposited La2O3 thin films.
J Chem Phys
; 146(5): 052821, 2017 Feb 07.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-28178843
2.
Surface modification of carbon post arrays by atomic layer deposition of ZnO film.
J Nanosci Nanotechnol
; 11(8): 7322-6, 2011 Aug.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-22103187
3.
Top-down fabrication of high-uniformity nanodiamonds by self-assembled block copolymer masks.
Sci Rep
; 9(1): 6914, 2019 May 06.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-31061512
4.
Hollow Cathode Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition of Silicon Nitride Using Pentachlorodisilane.
ACS Appl Mater Interfaces
; 10(16): 14116-14123, 2018 Apr 25.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-29551067
5.
Investigation of the Physical Properties of Plasma Enhanced Atomic Layer Deposited Silicon Nitride as Etch Stopper.
ACS Appl Mater Interfaces
; 10(51): 44825-44833, 2018 Dec 26.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-30485061
6.
Effects of H2 High-pressure Annealing on HfO2/Al2O3/In0.53Ga0.47As Capacitors: Chemical Composition and Electrical Characteristics.
Sci Rep
; 7(1): 9769, 2017 08 29.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-28852035
7.
Atomic Layer Deposition of Silicon Nitride Thin Films: A Review of Recent Progress, Challenges, and Outlooks.
Materials (Basel)
; 9(12)2016 Dec 12.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-28774125
8.
Tailoring the interface quality between HfO2 and GaAs via in situ ZnO passivation using atomic layer deposition.
ACS Appl Mater Interfaces
; 6(13): 10482-8, 2014 Jul 09.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-24911531
9.
Comparative study of atomic-layer-deposited stacked (HfO2/Al2O3) and nanolaminated (HfAlOx) dielectrics on In0.53Ga0.47As.
ACS Appl Mater Interfaces
; 5(10): 4195-201, 2013 May 22.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-23611632
10.
Correction to tailoring the interface quality between HfO2 and GaAs via in situ ZnO passivation using atomic layer deposition.
ACS Appl Mater Interfaces
; 7(13): 7445, 2015 Apr 08.
Artículo
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| MEDLINE | ID: mdl-25823007
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