Detalles de la búsqueda
1.
Analysis of a two-dimensional photonic bandgap structure fabricated by an interferometric lithographic system.
Appl Opt
; 46(16): 3196-204, 2007 Jun 01.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-17514275
2.
Applying an interferometric exposure model to analyze the influences of process parameters on the linewidth.
Appl Opt
; 45(32): 8278-87, 2006 Nov 10.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-17068571
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