Detalles de la búsqueda
1.
Amidoxime-Containing Zr and Hf Atomic Layer Deposition Precursors for Metal Oxide Thin Films.
Inorg Chem
; 63(1): 537-547, 2024 Jan 08.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-38108625
2.
Amidoxime-Containing Ti Precursors for Atomic Layer Deposition of TiN Thin Films with Suppressed Columnar Microstructure.
Inorg Chem
; 62(11): 4680-4687, 2023 Mar 20.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-36935645
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