Detalles de la búsqueda
1.
Plasma enhanced atomic layer deposition of silicon nitride using magnetized very high frequency plasma.
Nanotechnology
; 35(27)2024 Apr 18.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-38522102
2.
Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition of Silicon Nitride for Two Different Aminosilane Precursors Using Very High Frequency (162 MHz) Plasma Source.
ACS Appl Mater Interfaces
; 15(23): 28763-28771, 2023 Jun 14.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-37269552
Resultados
1 -
2
de 2
1
Próxima >
>>