Detalles de la búsqueda
1.
Improved ptychographic inspection of EUV reticles via inclusion of prior information.
Appl Opt
; 59(20): 5937-5947, 2020 Jul 10.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-32672737
2.
Automatic feature selection in EUV scatterometry.
Appl Opt
; 58(22): 5916-5923, 2019 Aug 01.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-31503906
3.
Fast semi-analytical solution of Maxwell's equations in Born approximation for periodic structures.
J Opt Soc Am A Opt Image Sci Vis
; 33(4): 610-7, 2016 04 01.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-27140770
4.
Reconstruction of sub-wavelength features and nano-positioning of gratings using coherent Fourier scatterometry.
Opt Express
; 22(20): 24678-88, 2014 Oct 06.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-25322042
5.
Wafer-based aberration metrology for lithographic systems using overlay measurements on targets imaged from phase-shift gratings.
Appl Opt
; 53(12): 2562-82, 2014 Apr 20.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-24787582
6.
Parameter retrieval of small particles in dark-field Fourier ptychography and a rectangle in real-space ptychography.
Ultramicroscopy
; 229: 113335, 2021 Oct.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-34243020
7.
Scalar diffraction modeling in optical disk recording using wave function assembling.
Appl Opt
; 46(23): 5598-603, 2007 Aug 10.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-17694104
8.
Nonlinear signal-processing model for scalar diffraction in optical recording.
Appl Opt
; 42(32): 6525-35, 2003 Nov 10.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-14650496
9.
Nonlinear signal-processing model for signal generation in multilevel two-dimensional optical storage.
Opt Lett
; 29(4): 385-7, 2004 Feb 15.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-14971761
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