Detalles de la búsqueda
1.
Self-reducing precursors for aluminium metal thin films: evaluation of stable aluminium hydrides for vapor phase aluminium deposition.
Dalton Trans
; 53(18): 7711-7720, 2024 May 07.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-38619887
2.
SnO deposition via water based ALD employing tin(II) formamidinate: precursor characterization and process development.
Dalton Trans
; 51(39): 14970-14979, 2022 Oct 11.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-36111964
3.
Additive-free spin coating of tin oxide thin films: synthesis, characterization and evaluation of tin ß-ketoiminates as a new precursor class for solution deposition processes.
Dalton Trans
; 49(31): 10755-10764, 2020 Aug 11.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-32530011
4.
PEALD of HfO2 Thin Films: Precursor Tuning and a New Near-Ambient-Pressure XPS Approach to in Situ Examination of Thin-Film Surfaces Exposed to Reactive Gases.
ACS Appl Mater Interfaces
; 11(31): 28407-28422, 2019 Aug 07.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-31339290
Resultados
1 -
4
de 4
1
Próxima >
>>