Detalles de la búsqueda
1.
EUV scatterometer with a high-harmonic-generation EUV source.
Opt Express
; 24(24): 28014-28025, 2016 Nov 28.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-27906368
2.
Infrared differential interference contrast microscopy for 3D interconnect overlay metrology.
Opt Express
; 21(16): 18884-98, 2013 Aug 12.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-23938801
3.
Characterization of high density through silicon vias with spectral reflectometry.
Opt Express
; 19(7): 5993-6006, 2011 Mar 28.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-21451624
4.
Reflectometer-based metrology for high-aspect ratio via measurement.
Opt Express
; 18(7): 7269-80, 2010 Mar 29.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-20389748
5.
Overlay measurement using angular scatterometer for the capability of integrated metrology.
Opt Express
; 14(13): 6001-10, 2006 Jun 26.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-19516771
6.
Scatterometry-based metrology with feature region signatures matching.
Opt Express
; 14(19): 8482-91, 2006 Sep 18.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-19529226
7.
Through-focus technique for nano-scale grating pitch and linewidth analysis.
Opt Express
; 13(18): 6699-708, 2005 Sep 05.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-19498687
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