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1.
In Situ Hydrogen Plasma Exposure for Varying the Stoichiometry of Atomic Layer Deposited Niobium Oxide Films for Use in Neuromorphic Computing Applications.
ACS Appl Mater Interfaces
; 12(14): 16639-16647, 2020 Apr 08.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-32223206
2.
Tunable Electrical Properties of Vanadium Oxide by Hydrogen-Plasma-Treated Atomic Layer Deposition.
ACS Omega
; 2(4): 1259-1264, 2017 Apr 30.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-31457501
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