Detalles de la búsqueda
1.
Electron beam lithography with negative tone resist for highly integrated silicon quantum bits.
Nanotechnology
; 32(48)2021 Sep 07.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-34425562
2.
4.2 K sensitivity-tunable radio frequency reflectometry of a physically defined p-channel silicon quantum dot.
Sci Rep
; 11(1): 20039, 2021 Oct 08.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-34625617
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