Detalles de la búsqueda
1.
In Situ Infrared Absorption Study of Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition of Silicon Nitride.
Langmuir
; 34(8): 2619-2629, 2018 02 27.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-29381069
2.
Atomic Layer Deposition of Wet-Etch Resistant Silicon Nitride Using Di(sec-butylamino)silane and N2 Plasma on Planar and 3D Substrate Topographies.
ACS Appl Mater Interfaces
; 9(2): 1858-1869, 2017 Jan 18.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-28059494
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