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1.
A Comparative Study on the Ferroelectric Performances in Atomic Layer Deposited Hf0.5Zr0.5O2 Thin Films Using Tetrakis(ethylmethylamino) and Tetrakis(dimethylamino) Precursors.
Nanoscale Res Lett
; 15(1): 72, 2020 Apr 07.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-32266598
2.
Modeling of Negative Capacitance in Ferroelectric Thin Films.
Adv Mater
; 31(32): e1805266, 2019 Aug.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-31165533
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