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Kinetic study on heterogeneous nucleation and incubation period during chemical vapor deposition.
J Chem Phys
; 158(12): 124704, 2023 Mar 28.
Artículo
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| MEDLINE | ID: mdl-37003749
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Analysis of the Gas Phase Kinetics Active during GaN Deposition from NH3 and Ga(CH3)3.
J Phys Chem A
; 119(28): 7858-71, 2015 Jul 16.
Artículo
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| MEDLINE | ID: mdl-25919948
3.
Material design of plasma-enhanced chemical vapour deposition SiCH films for low-k cap layers in the further scaling of ultra-large-scale integrated devices-Cu interconnects.
Sci Technol Adv Mater
; 14(5): 055005, 2013 Oct.
Artículo
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| MEDLINE | ID: mdl-27877612
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Multiscale analysis of silicon carbide-chemical vapor deposition process.
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Artículo
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| MEDLINE | ID: mdl-22097517
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Conformal and Stoichiometric Chemical Vapor Deposition of Silicon Carbide onto Ultradeep Heterogeneous Micropores by Controlling the Initial Nucleation Stage.
ACS Appl Mater Interfaces
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| MEDLINE | ID: mdl-34711052
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Porous Membranes as Sacrificial Layers Enabling Conformal Chemical Vapor Deposition Involving Multiple Film-Forming Species.
ACS Appl Mater Interfaces
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Artículo
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| MEDLINE | ID: mdl-33124421
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