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1.
Conformality of atomic layer deposition in microchannels: impact of process parameters on the simulated thickness profile.
Phys Chem Chem Phys
; 24(15): 8645-8660, 2022 Apr 13.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-35353098
2.
Saturation profile based conformality analysis for atomic layer deposition: aluminum oxide in lateral high-aspect-ratio channels.
Phys Chem Chem Phys
; 22(40): 23107-23120, 2020 Oct 21.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-33025987
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