Detalles de la búsqueda
1.
Control of adhesion force between ceria particles and polishing pad in shallow trench isolation chemical mechanical planarization.
J Nanosci Nanotechnol
; 14(6): 4351-6, 2014 Jun.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-24738395
Resultados
1 -
1
de 1
1
Próxima >
>>