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1.
Conformal Zn-Benzene Dithiol Thin Films for Temperature-Sensitive Electronics Grown via Industry-Feasible Atomic/Molecular Layer Deposition Technique.
Small
; : e2402608, 2024 Jun 09.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-38853133
2.
Size and Shape Exclusion in 2D Silicon Dioxide Membranes.
Small
; 19(9): e2205602, 2023 Mar.
Artículo
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| MEDLINE | ID: mdl-36521931
3.
Direct-Patterning ZnO Deposition by Atomic-Layer Additive Manufacturing Using a Safe and Economical Precursor.
Small
; 19(36): e2301774, 2023 Sep.
Artículo
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| MEDLINE | ID: mdl-37127863
4.
Rational Development of Guanidinate and Amidinate Based Cerium and Ytterbium Complexes as Atomic Layer Deposition Precursors: Synthesis, Modeling, and Application.
Chemistry
; 27(15): 4913-4926, 2021 Mar 12.
Artículo
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| MEDLINE | ID: mdl-33470473
5.
Synthesis, Characterization, and Thermal Study of Divalent Germanium, Tin, and Lead Triazenides as Potential Vapor Deposition Precursors.
Inorg Chem
; 60(17): 12759-12765, 2021 Sep 06.
Artículo
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| MEDLINE | ID: mdl-34362251
6.
Synthesis and Thermal Study of Hexacoordinated Aluminum(III) Triazenides for Use in Atomic Layer Deposition.
Inorg Chem
; 60(7): 4578-4587, 2021 Apr 05.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-33710869
7.
A Rare Low-Spin CoIV Bis(ß-silyldiamide) with High Thermal Stability: Steric Enforcement of a Doublet Configuration.
Angew Chem Int Ed Engl
; 59(33): 14138-14142, 2020 Aug 10.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-32369235
8.
Potential Precursor Alternatives to the Pyrophoric Trimethylaluminium for the Atomic Layer Deposition of Aluminium Oxide.
Chemistry
; 25(31): 7489-7500, 2019 Jun 04.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-30870572
9.
Designing Stability into Thermally Reactive Plumbylenes.
Inorg Chem
; 57(14): 8218-8226, 2018 Jul 16.
Artículo
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| MEDLINE | ID: mdl-29943579
10.
Synthesis, characterisation and reactivity of a zinc triazenide for potential use in vapour deposition.
Dalton Trans
; 53(13): 5911-5916, 2024 Mar 26.
Artículo
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| MEDLINE | ID: mdl-38451474
11.
High-Performance Iridium Thin Films for Water Splitting by CVD Using New Ir(I) Precursors.
ACS Appl Mater Interfaces
; 14(46): 52149-52162, 2022 Nov 23.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-36351209
12.
SnO deposition via water based ALD employing tin(II) formamidinate: precursor characterization and process development.
Dalton Trans
; 51(39): 14970-14979, 2022 Oct 11.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-36111964
13.
Bendable Polycrystalline and Magnetic CoFe2O4 Membranes by Chemical Methods.
ACS Appl Mater Interfaces
; 14(10): 12845-12854, 2022 Mar 16.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-35232015
14.
A study on the influence of ligand variation on formamidinate complexes of yttrium: new precursors for atomic layer deposition of yttrium oxide.
Dalton Trans
; 50(37): 12944-12956, 2021 Sep 28.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-34581336
15.
Atomic layer deposition of dielectric Y2O3 thin films from a homoleptic yttrium formamidinate precursor and water.
RSC Adv
; 11(5): 2565-2574, 2021 Jan 11.
Artículo
en Inglés
| MEDLINE | ID: mdl-35424225
16.
Additive-free spin coating of tin oxide thin films: synthesis, characterization and evaluation of tin ß-ketoiminates as a new precursor class for solution deposition processes.
Dalton Trans
; 49(31): 10755-10764, 2020 Aug 11.
Artículo
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| MEDLINE | ID: mdl-32530011
17.
A new metalorganic chemical vapor deposition process for MoS2 with a 1,4-diazabutadienyl stabilized molybdenum precursor and elemental sulfur.
Dalton Trans
; 49(38): 13462-13474, 2020 Oct 06.
Artículo
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| MEDLINE | ID: mdl-32966456
18.
PEALD of HfO2 Thin Films: Precursor Tuning and a New Near-Ambient-Pressure XPS Approach to in Situ Examination of Thin-Film Surfaces Exposed to Reactive Gases.
ACS Appl Mater Interfaces
; 11(31): 28407-28422, 2019 Aug 07.
Artículo
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| MEDLINE | ID: mdl-31339290
19.
Low-Temperature Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition of Tin(IV) Oxide from a Functionalized Alkyl Precursor: Fabrication and Evaluation of SnO2-Based Thin-Film Transistor Devices.
ACS Appl Mater Interfaces
; 11(3): 3169-3180, 2019 Jan 23.
Artículo
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| MEDLINE | ID: mdl-30624887
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