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Univ. odontol ; 20(41): 67-71, mayo 2000. tab
Artigo em Espanhol | LILACS | ID: lil-395235

RESUMO

El estudio fue de tipo comparativo y su diseño experimental. El propósito fue comparar los siguientes grados de resistencia a la descementación que presentan una resina de fotocurado de un paso (RADP), una resina de fotocurado de un paso (RFUP) y un polialqueonato de fotocurado modificado con resina (PFMR) sobre el esmalte dental, utilizando fuerzas tangenciales y así identificar cuál o cuales de estos agentes cementantes de brackets ofrecen mejores propiedades de adhesión al diente y al bracket. La muestra fue de 90 dientes premolares superiores e inferiores con extracción indicada por tratamiento ortodóntico, los cuales fueron asignados aleatoriamente a 3 grupos. Se cementaron los brackets con los tres materiales, siguiendo las recomendaciones de los fabricantes; luego de esto, los dientes se llevaron a un proceso de envejecimiento por medio de termociclado, se sometieron a fuerzas tangenciales con un dinamómetro tipo instron y se cuantificó en magapascales (Mpa) con cuánta fuerza se ocasionó la descementación de ese bracket. Para el análisis, se utilizó ANOVA para las pruebas física, y la prueba de Scheffe para comparar los adhesivos. Se presentaron diferencias sifnificativas, lo cual sugiere diferentes indicaciones de uso para el PFMR y la RFUP, con un promedio resistencia a la descementación de 20 Mpa.


Assuntos
Ortodontia , Cimentos Dentários , Materiais Dentários , Colômbia
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