Ultrafast laser photoinscription of polarization sensitive devices in bulk silica glass.

Cheng, G; Mishchik, K; Mauclair, C; Audouard, E; Stoian, R

Cheng, G; Mishchik, K; Mauclair, C; Audouard, E; Stoian, R.

Afiliación

Cheng G; Laboratoire Hubert Curien, UMR 5516 CNRS, Université Jean Monnet, 42000 Saint Etienne, Université de Lyon, 42023 Saint Etienne, France.

Opt Express ; 17(12): 9515-25, 2009 Jun 08.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-19506599

Asunto(s)

Rayos Láser; Fotoquímica/métodos; Refractometría/instrumentación; Refractometría/métodos; Dióxido de Silicio/química; Dióxido de Silicio/efectos de la radiación; Diseño Asistido por Computadora; Diseño de Equipo; Análisis de Falla de Equipo; Vidrio/química; Vidrio/efectos de la radiación; Reproducibilidad de los Resultados; Sensibilidad y Especificidad

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Colección: 01-internacional Base de datos: MEDLINE Asunto principal: Fotoquímica / Refractometría / Dióxido de Silicio / Rayos Láser Tipo de estudio: Diagnostic_studies Idioma: En Revista: Opt Express Asunto de la revista: OFTALMOLOGIA Año: 2009 Tipo del documento: Article País de afiliación: Francia Pais de publicación: Estados Unidos

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