Enhancement of ferroelectric polarization stability by interface engineering.

Lu, H; Liu, X; Burton, J D; Bark, C-W; Wang, Y; Zhang, Y; Kim, D J; Stamm, A; Lukashev, P; Felker, D A; Folkman, C M; Gao, P; Rzchowski, M S; Pan, X Q; Eom, C-B; Tsymbal, E Y; Gruverman, A

Lu, H; Liu, X; Burton, J D; Bark, C-W; Wang, Y; Zhang, Y; Kim, D J; Stamm, A; Lukashev, P; Felker, D A; Folkman, C M; Gao, P; Rzchowski, M S; Pan, X Q; Eom, C-B; Tsymbal, E Y; Gruverman, A.

Afiliación

Lu H; Department of Physics and Astronomy, Nebraska Center for Materials and Nanoscience, University of Nebraska, Lincoln, NE 68588, USA.

Adv Mater ; 24(9): 1209-16, 2012 Mar 02.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-22278910

RESUMEN

By using theoretical predictions based on first-principle calculations, we explore an interface engineering approach to stabilize polarization states in ferroelectric heterostructures with a thickness of just several nanometers.

Asunto(s)

Compuestos de Bario/química; Electrónica/instrumentación; Nanoestructuras/química; Óxidos/química; Compuestos de Rutenio/química; Bario/química; Electricidad; Estroncio/química; Propiedades de Superficie

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Texto completo: 1 Colección: 01-internacional Base de datos: MEDLINE Asunto principal: Óxidos / Compuestos de Rutenio / Compuestos de Bario / Nanoestructuras / Electrónica Idioma: En Revista: Adv Mater Asunto de la revista: BIOFISICA / QUIMICA Año: 2012 Tipo del documento: Article País de afiliación: Estados Unidos Pais de publicación: Alemania

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