Removal of amoxicillin by UV and UV/H2O2 processes.

Jung, Yeon Jung; Kim, Wan Gi; Yoon, Yeojoon; Kang, Joon-Wun; Hong, Young Min; Kim, Hyun Wook

Jung, Yeon Jung; Kim, Wan Gi; Yoon, Yeojoon; Kang, Joon-Wun; Hong, Young Min; Kim, Hyun Wook.

Afiliación

Jung YJ; Department of Environmental Engineering, YIEST, Yonsei University, 234 Maeji, Heungup, Wonju, 220-710, Republic of Korea. chorong50@gmail.com

Sci Total Environ ; 420: 160-7, 2012 Mar 15.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-22326316

Asunto(s)

Amoxicilina/efectos de la radiación; Peróxido de Hidrógeno/química; Fotólisis; Rayos Ultravioleta; Amoxicilina/química; Escherichia coli/efectos de los fármacos; Cinética; Pruebas de Sensibilidad Microbiana; Oxidación-Reducción; Ozono/química

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Texto completo: 1 Colección: 01-internacional Base de datos: MEDLINE Asunto principal: Fotólisis / Rayos Ultravioleta / Amoxicilina / Peróxido de Hidrógeno Idioma: En Revista: Sci Total Environ Año: 2012 Tipo del documento: Article

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