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Simulation of the backscattered electron intensity of multi layer structure for the explanation of secondary electron contrast.
Sulyok, A; Toth, A L; Zommer, L; Menyhard, M; Jablonski, A.
Afiliación
  • Sulyok A; Research Institute for Technical Physics and Materials Science, Budapest H-1525, P.O. Box 49, Hungary.
Ultramicroscopy ; 124: 88-95, 2013 Jan.
Article en En | MEDLINE | ID: mdl-23142749
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Texto completo: 1 Colección: 01-internacional Base de datos: MEDLINE Asunto principal: Microscopía Electrónica de Rastreo Tipo de estudio: Health_economic_evaluation / Qualitative_research Idioma: En Revista: Ultramicroscopy Año: 2013 Tipo del documento: Article País de afiliación: Hungria Pais de publicación: Países Bajos
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