Characterization of SiGe thin films using a laboratory X-ray instrument. | J Appl Crystallogr;46(Pt 4): 898-902, 2013 Aug 01. | MEDLINE

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Characterization of SiGe thin films using a laboratory X-ray instrument.

Ulyanenkova, Tatjana; Myronov, Maksym; Benediktovitch, Andrei; Mikhalychev, Alexander; Halpin, John; Ulyanenkov, Alex.

Afiliación

Ulyanenkova T; Rigaku Europe SE, Am Hardtwald 11, Ettlingen, Germany.

J Appl Crystallogr ; 46(Pt 4): 898-902, 2013 Aug 01.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-24046495

Palabras clave

high-resolution reciprocal space mapping; misfit dislocation; partly relaxed epitaxial films; thin films

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Texto completo: 1 Colección: 01-internacional Base de datos: MEDLINE Idioma: En Revista: J Appl Crystallogr Año: 2013 Tipo del documento: Article País de afiliación: Alemania Pais de publicación: Estados Unidos

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