Response of Gallium Nitride Chemiresistors to Carbon Monoxide is Due to Oxygen Contamination.

Prasad, Ravi Mohan; Lauterbach, Stefan; Kleebe, Hans-Joachim; Merdrignac-Conanec, Odile; Barsan, Nicolae; Weimar, Udo; Gurlo, Aleksander

Prasad, Ravi Mohan; Lauterbach, Stefan; Kleebe, Hans-Joachim; Merdrignac-Conanec, Odile; Barsan, Nicolae; Weimar, Udo; Gurlo, Aleksander.

Afiliación

Prasad RM; Technische Universität Darmstadt , Fachbereich Material und Geowissenschaften, Fachgebiet Disperse Feststoffe, Alarich-Weiss-Straße 2, 64287 Darmstadt, Germany.
Lauterbach S; Technische Universität Darmstadt , Fachbereich Material und Geowissenschaften, Fachgebiet Disperse Feststoffe, Alarich-Weiss-Straße 2, 64287 Darmstadt, Germany.
Kleebe HJ; Technische Universität Darmstadt , Fachbereich Material und Geowissenschaften, Fachgebiet Disperse Feststoffe, Alarich-Weiss-Straße 2, 64287 Darmstadt, Germany.
Merdrignac-Conanec O; UMR CNRS 6226, Institut des Sciences Chimiques de Rennes, Equipe Verres et Céramiques, Université de Rennes 1 , 35042 Rennes Cedex, France.
Barsan N; Tübingen University , Faculty of Science, Chemistry Department, Auf der Morgenstelle 15, 72076 Tübingen, Germany.
Weimar U; Tübingen University , Faculty of Science, Chemistry Department, Auf der Morgenstelle 15, 72076 Tübingen, Germany.
Gurlo A; Technische Universität Darmstadt , Fachbereich Material und Geowissenschaften, Fachgebiet Disperse Feststoffe, Alarich-Weiss-Straße 2, 64287 Darmstadt, Germany.

ACS Sens ; 2(6): 713-717, 2017 Jun 23.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-28723115

Palabras clave

carbon monoxide; chemiresistors; gallium nitride; gallium oxide; oxygen

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Texto completo: 1 Colección: 01-internacional Base de datos: MEDLINE Idioma: En Revista: ACS Sens Año: 2017 Tipo del documento: Article País de afiliación: Alemania Pais de publicación: Estados Unidos

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