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Properties of tin oxide films grown by atomic layer deposition from tin tetraiodide and ozone.
Kalam, Kristjan; Ritslaid, Peeter; Käämbre, Tanel; Tamm, Aile; Kukli, Kaupo.
Afiliación
  • Kalam K; Institute of Physics, University of Tartu, W. Ostwaldi 1, 50411 Tartu, Estonia.
  • Ritslaid P; Institute of Physics, University of Tartu, W. Ostwaldi 1, 50411 Tartu, Estonia.
  • Käämbre T; Institute of Physics, University of Tartu, W. Ostwaldi 1, 50411 Tartu, Estonia.
  • Tamm A; Institute of Physics, University of Tartu, W. Ostwaldi 1, 50411 Tartu, Estonia.
  • Kukli K; Institute of Physics, University of Tartu, W. Ostwaldi 1, 50411 Tartu, Estonia.
Beilstein J Nanotechnol ; 14: 1085-1092, 2023.
Article en En | MEDLINE | ID: mdl-38025197
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Texto completo: 1 Colección: 01-internacional Base de datos: MEDLINE Idioma: En Revista: Beilstein J Nanotechnol Año: 2023 Tipo del documento: Article País de afiliación: Estonia
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