Properties of tin oxide films grown by atomic layer deposition from tin tetraiodide and ozone.
Beilstein J Nanotechnol
; 14: 1085-1092, 2023.
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| ID: mdl-38025197
Texto completo:
1
Colección:
01-internacional
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MEDLINE
Idioma:
En
Revista:
Beilstein J Nanotechnol
Año:
2023
Tipo del documento:
Article
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Estonia