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An in situ investigation of electromigration in Cu nanowires.
Huang, Qiaojian; Lilley, Carmen M; Divan, Ralu.
Afiliação
  • Huang Q; Department of Mechanical and Industrial Engineering, University of Illinois at Chicago, 3055 Engineering Research Facility, Chicago, IL 60607, USA.
Nanotechnology ; 20(7): 075706, 2009 Feb 18.
Article em En | MEDLINE | ID: mdl-19417434

Texto completo: 1 Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Idioma: En Revista: Nanotechnology Ano de publicação: 2009 Tipo de documento: Article País de afiliação: Estados Unidos País de publicação: Reino Unido

Texto completo: 1 Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Idioma: En Revista: Nanotechnology Ano de publicação: 2009 Tipo de documento: Article País de afiliação: Estados Unidos País de publicação: Reino Unido