Deposition of topological silicene, germanene and stanene on graphene-covered SiC substrates.

Matusalem, Filipe; Koda, Daniel S; Bechstedt, Friedhelm; Marques, Marcelo; Teles, Lara K

Matusalem, Filipe; Koda, Daniel S; Bechstedt, Friedhelm; Marques, Marcelo; Teles, Lara K.

Afiliação

Matusalem F; Grupo de Materiais Semicondutores e Nanotecnologia (GMSN), Instituto Tecnológico de Aeronáutica (ITA), 12228-900, Sao José dos Campos/SP, Brazil. filipematus@gmail.com.
Koda DS; Grupo de Materiais Semicondutores e Nanotecnologia (GMSN), Instituto Tecnológico de Aeronáutica (ITA), 12228-900, Sao José dos Campos/SP, Brazil.
Bechstedt F; Institut fur Festkorpertheorie und -optik, Friedrich-Schiller-Universitat, Max-Wien-Platz 1, D-07743, Jena, Germany.
Marques M; Grupo de Materiais Semicondutores e Nanotecnologia (GMSN), Instituto Tecnológico de Aeronáutica (ITA), 12228-900, Sao José dos Campos/SP, Brazil.
Teles LK; Grupo de Materiais Semicondutores e Nanotecnologia (GMSN), Instituto Tecnológico de Aeronáutica (ITA), 12228-900, Sao José dos Campos/SP, Brazil.

Sci Rep ; 7(1): 15700, 2017 Nov 16.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-29146916

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Texto completo: 1 Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Idioma: En Revista: Sci Rep Ano de publicação: 2017 Tipo de documento: Article País de afiliação: Brasil País de publicação: Reino Unido

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