Measurements of Microstructural, Chemical, Optical, and Electrical Properties of Silicon-Oxygen-Nitrogen Films Prepared by Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition.
Nanomaterials (Basel)
; 8(12)2018 Dec 05.
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Idioma:
En
Revista:
Nanomaterials (Basel)
Ano de publicação:
2018
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País de afiliação:
China
País de publicação:
Suíça