Highly dispersed Co deposited on Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub> particles via CoCp<sub>2</sub> + H<sub>2</sub> ALD. | Nanotechnology;31(17): 175703, 2020 Apr 24. | MEDLINE

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Highly dispersed Co deposited on Al₂O₃ particles via CoCp₂ + H₂ ALD.

Clary, Jacob M; Van Norman, Staci A; Funke, Hans H; Su, Dong; Musgrave, Charles B; Weimer, Alan W.

Afiliação

Clary JM; Department of Chemical and Biological Engineering, University of Colorado Boulder, Boulder, CO 80303, United States of America.

Nanotechnology ; 31(17): 175703, 2020 Apr 24.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-31913142

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Texto completo: 1 Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Idioma: En Revista: Nanotechnology Ano de publicação: 2020 Tipo de documento: Article País de afiliação: Estados Unidos País de publicação: Reino Unido

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